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 分子態(tài)污染物
分子態(tài)污染物(AMC)是半導(dǎo)體生產(chǎn)用潔凈室對(duì)環(huán)境要求的一個(gè)新指標(biāo)，20世紀(jì)90年代中期才提出。特別是生產(chǎn)集成電路的硅片發(fā)展到8英寸(1英寸=0.0254m)及其以上時(shí)，對(duì)污染物的控制已由微粒發(fā)展到分子態(tài)污染物，此時(shí)電路上1/2線寬大約在0.1pm以下。分子態(tài)污染物粒徑為高效和超高效過(guò)濾器所過(guò)濾微粒的千分之一到萬(wàn)分之一。
據(jù)我國(guó)臺(tái)灣文獻(xiàn)估計(jì)，在潔凈室中AMC來(lái)源如下:新風(fēng)5%~10%;
人員30%~40%;
生產(chǎn)中揮發(fā)25%~30%;
生產(chǎn)設(shè)備20%~30%。
可見(jiàn)內(nèi)部污染高于新風(fēng)。
室內(nèi)污染來(lái)源有:化學(xué)原料、溶劑的揮發(fā)，室內(nèi)的氣體釋放，人員本身及其疏忽造成的意外漏溢。
例如:氫氟酸與含氧化硼的過(guò)濾器所用濾材反應(yīng)釋出硼化物，蝕刻劑及清洗區(qū)的酸蒸發(fā)，建筑裝飾材料、簾幕、臺(tái)面材質(zhì)、接縫密封膠、硅晶片儲(chǔ)存盒、PVC手套等塑膠材質(zhì)都會(huì)散發(fā)出分子態(tài)污染物，主要有氨、胺化物、酸、醇類及高揮發(fā)性物質(zhì)。分子態(tài)污染對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)的影響主要表現(xiàn)在:其中的酸會(huì)腐蝕設(shè)備和硅片，使蝕刻速度變化;其中的堿會(huì)使顯影不清，光學(xué)儀器及硅片表面霧化;其中的凝聚性有機(jī)物會(huì)使黏著力變低，接觸電阻增高，并影響清潔效果;其中的摻雜物會(huì)改變電壓，使電阻系數(shù)偏移，造成電氣特性改變。
據(jù)半導(dǎo)設(shè)備與材料國(guó)際組織提出的標(biāo)準(zhǔn)潔凈環(huán)境中氣態(tài)分子級(jí)化學(xué)污染物的分級(jí)(SEMIF21一95)如表5-21所列。